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词条 悬浮区熔法
释义
悬浮区熔法
悬浮区熔法  亦称“无坩埚法”,简称“FZ法”。晶体生长的熔区呈悬浮状态的晶体生产工艺。熔区完全依靠表面张力和高频电磁力的支托,悬浮于多晶料棒与下方生长的单晶之间。制备的单晶氧含量和杂质含量低,可得到低氧高阻的单晶硅,但熔体与晶体的界面复杂,很难获得无层错晶体,且成本过高。
出处:材料科学卷 • 信息功能材料 • 元素半导体和硅基材料
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更新时间:2025/2/12 20:51:50