出处:材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性
词条 | 物理气相沉积 |
释义 | 物理气相沉积 物理气相沉积 采用蒸发或溅射等物理方法,使膜料汽化成原子、分子或使其电离成离子,通过气相反应过程在工件表面沉积形成膜层的工艺过程。 出处:材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性 物理气相沉积 英语缩写PVD(physical vapor deposition)。在真空条件下,采用物理方法,将材料源汽化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过气相反应过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。主要方法有真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜,及分子束外延等。不仅可沉积金属膜、合金膜,还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 出处:信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 物理气相沉积 采用蒸发或溅射等物理方法,使膜料汽化成原子、分子或使其电离成离子,通过气相反应过程在工件表面沉积形成膜层的工艺过程。 出处:材料科学卷 • 信息功能材料 • 信息储存材料 |
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