请输入您要查询的百科知识:

 

词条 后烘
释义
后烘
后烘  半导体光刻工艺中曝光操作之后的步骤。对曝光后的光刻胶进行短时间的烘烤。其目的在于减少驻波效应,以及激发化学增强光刻胶产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应,并移除基团,使之能溶解于显影液。光刻胶进行后烘处理后,可增强其耐刻蚀能力。
出处:信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
随便看

 

百科全书收录258893条中英文百科知识,基本涵盖了大多数领域的百科知识,是一部内容开放、自由的电子版百科全书。

 

Copyright © 2004-2023 Newdu.com All Rights Reserved
更新时间:2025/2/8 4:18:58