“接近式光刻”的意思、由来-百科全书

词条	接近式光刻
释义	接近式光刻信息科学卷接近式光刻　　曝光时，掩模版与光刻胶层略微分开（大约为10～50微米的距离）的光刻技术。可避免与光刻胶直接接触而引起的掩模版损伤。但同时引入衍射效应，降低了最大分辨率，仅为2～4微米。出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
随便看	等电点等畴等离子体等离子体冶金等离子体化学气相沉积等离子体增强化学气相沉积等离子体天体物理学等离子体技术等离子体武器等离子体浸没式离子注入等离子体源离子注入等离子体焚烧等离子体物理学等离子体聚合等离子冷床熔炼等离子切割等离子刻蚀等离子化学制氢等离子区等离子合成法制粉等离子喷涂等离子喷镀等离子填丝堆焊等离子弧喷焊等离子弧焊

百科全书收录258893条中英文百科知识，基本涵盖了大多数领域的百科知识，是一部内容开放、自由的电子版百科全书。