出处：材料科学卷 • 信息功能材料 • 元素半导体和硅基材料
| 词条 | 吸除 |
| 释义 | 吸除 吸除 利用硅片中引入的缺陷以吸收表面有源区的杂质与缺陷的技术。按原理可分为本征吸除、非本征吸除、化学吸除等。不同吸除对不同的杂质作用不同，有时可联合应用两种或更多方法。随着集成电路的集成度与复杂性的增加，对工作区的杂质与缺陷的要求愈来愈严格。另一方面，由于工序的增加，引入杂质和缺陷的概率也增加，利用吸除以保证有源区的纯度与完整性已成为必要手段。 出处：材料科学卷 • 信息功能材料 • 元素半导体和硅基材料 |
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