出处：材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性
| 词条 | 射频溅射 |
| 释义 | 射频溅射 射频溅射 利用射频放电产生的离子轰击靶材进行溅射的镀膜技术。射频溅射装置主要由真空室、真空系统和射频电源构成。真空室中装有两个电极：工件接真空室和地作阳极，靶材作阴极。通常将13.56兆赫的高频电场加在两个电极上，可使气体中的电子随交变电场高速振荡，从而使气体电离为等离子体。离子向靶轰击产生溅射效应，溅射出来的膜料原子沉积在工件上形成镀层。可溅射任何材料。 出处：材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性 射频溅射 利用射频放电产生的离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术。由于射频电源的正负性发生周期交替，当溅射靶处于正半周期时，电子流向靶面，中和其表面积累的正电荷，并且积累电子，使其表面呈现负偏压，导致在射频电压的负半周期内吸引正离子轰击靶材，从而实现溅射，形成薄膜。射频溅射常用来沉积各种合金膜、磁性膜以及其他功能膜。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 |
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