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| 词条 | 射频溅射沉积 |
| 释义 | 射频溅射沉积 射频溅射沉积 亦称“溅射镀膜”。金属表面涂层技术之一。属气相沉积方法。将涂覆用材料制成靶作为阴极,被离子轰击后溅射出原子或分子,在电场作用下沉积于被镀工件(底材)表面形成薄膜。射频溅射是用高频电磁场来维持辉光放电,产生轰击离子使溅射不断进行。 出处：机械电气卷 • 机械工程 • 机械制造 • 热处理 |
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