“相移掩模技术”的意思、由来-百科全书

词条	相移掩模技术
释义	相移掩模技术信息科学卷相移掩模技术　　一种光刻分辨率增强技术。针对因衍射效应而导致光刻分辨率受限的现象，其原理是利用通过掩模的相移层与未经相移层的光束间的相位差形成破坏性干涉，使两条相邻线条之间的光通过干涉相消，以此提高分辨率。出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
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