出处：材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性
| 词条 | 磁控溅射 |
| 释义 | 磁控溅射 磁控溅射 在二极溅射中，在与溅射靶材表面平行的方向施加一封闭磁场，且磁场方向与阴极表面平行，磁场与电场正交，以提高阴极溅射速率和降低二次电子撞击基板发热的不利影响的溅射镀膜方法。 出处：材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性 磁控溅射 一种物理气相沉积方法。用一个环形永久磁体在靶上产生环形磁场，借助磁场把电子束缚在一个环状空间内，形成高密度的等离子环，环内形成的氩离子被加速后打向靶表面，把靶内的原子溅射出来，沉积在基片上形成薄膜。适用于沉积各种功能性金属和陶瓷。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 |
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