出处：材料科学卷 • 高分子材料 • 涂料、黏合剂、油墨
| 词条 | 光刻胶 |
| 释义 | 光刻胶 光刻胶 即“光致抗蚀剂”。 出处：材料科学卷 • 高分子材料 • 涂料、黏合剂、油墨 光刻胶 亦称“光致抗蚀剂”。完成光刻工艺所必需的材料。为光敏性聚合物,按光线(主要是紫外线)照射后转变为不溶的体型结构或可溶的线型结构,分为负性胶和正性胶两种。 出处：化工轻工纺织卷 • 高分子化工 光刻胶 亦称“光致抗蚀剂”。由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。是完成光刻工艺所必需的材料。为光敏性聚合物。广泛应用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等。品种较多。根据化学反应机理和显影机理，可分为正性光刻胶和负性光刻胶。光照后转变为可溶线型结构的，称“正性光刻胶”，其曝光区域在显影过程中被除去，形成的图形与掩模版上的相同；光照后转变为不溶体型结构的，称“负性光刻胶”，其非曝光区域在显影过程中被除去，形成的图形与掩模版上的相反。 出处：信息科学卷 • 光学与光电子 • 光学和光电子材料 光刻胶 亦称“光致抗蚀剂”。由树脂、增感剂和溶剂等组成的对光敏感的胶液。主要作用是胶中树脂在受光照后,溶解性能会发生变化。有正性胶和负性胶两类。前者如线型酚醛树脂与邻醌偶氮化合物在溶剂中形成的胶液,其涂层在曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分保留下来;后者如环化橡胶与双叠氮化合物和溶剂形成的胶液,其涂层在曝光、显影后,曝光部分保留,而未曝光部分被溶解。广泛用作大规模集成电路、显像管、显示器等中做抗腐蚀涂层材料。 出处：数理化力学卷 • 化 学 • 高分子化学 光刻胶 亦称“光致抗蚀剂”。由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。是完成光刻工艺所必需的材料。为光敏性聚合物。广泛应用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等。品种较多。根据化学反应机理和显影机理，可分为正性光刻胶和负性光刻胶。光照后转变为可溶线型结构的，称“正性光刻胶”，其曝光区域在显影过程中被除去，形成的图形与掩模版上的相同；光照后转变为不溶体型结构的，称“负性光刻胶”，其非曝光区域在显影过程中被除去，形成的图形与掩模版上的相反。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 |
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