出处：法学卷 • 民法学 • 知识产权
| 词条 | 集成电路布图设计权 |
| 释义 | 集成电路布图设计权 集成电路布图设计权 工业产权的一种。权利人对其集成电路布图设计进行复制和商业利用的专有权利。在中国，2001年4月发布的《集成电路布图设计保护条例》规定的该权利有：对布图设计享有专有权的自然人、法人或其他组织对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制的权利；对受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用的权利。该权利经国务院知识产权局登记后产生，其保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。无论是否登记或者投入商业利用，该设计自创作完成之日起15年后不再保护。 出处：法学卷 • 民法学 • 知识产权 |
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