“浅沟槽隔离”的意思、由来-百科全书

词条	浅沟槽隔离
释义	浅沟槽隔离信息科学卷浅沟槽隔离　　利用氮化硅掩模经过淀积、图形化、刻蚀硅后形成浅的沟槽，并在槽中填充淀积氧化物，用于与硅隔离的工艺。主要步骤包括槽刻蚀、氧化物填充和氧化物平坦化。通常用于0.25微米以下工艺。出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
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