词条	刻蚀选择比
释义	刻蚀选择比 信息科学卷 刻蚀选择比　　不同物质之间蚀刻速率的比值。在刻蚀过程中，被刻蚀物质上层的遮罩物质（如光刻胶）或下层物质本不需被刻蚀的膜层也同时遭到刻蚀，因此可分为对遮罩物质的选择比及对待蚀刻物质下层物质的选择比。选择比要求越高越好，高选择比意味着只刻除想要刻去的那一部分材料。用公式可表示为：选择比＝被刻蚀材料的速率/不需要被刻蚀材料的速率。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 材料科学卷 刻蚀选择比　　不同物质之间蚀刻速率的比值。在刻蚀过程中，被刻蚀物质上层的遮罩物质（如光致抗蚀剂）或下层物质本不需被刻蚀的膜层也同时遭到刻蚀，因此可分为对遮罩物质的选择比及对待蚀刻物质下层物质的选择比。选择比要求越高越好，高选择比意味着只刻蚀想要刻去的那一部分材料。选择比可表示为： 出处：材料科学卷 • 信息功能材料 • 信息储存材料
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