出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
| 词条 | 扫描投影光刻 |
| 释义 | 扫描投影光刻 扫描投影光刻 利用反射镜系统，把有1∶1图像的整个掩模图形投影到硅片表面的光刻技术。由于掩模版是1倍的，图像没有放大和缩小，并且掩模版图形和硅片上的图形尺寸相同。其原理是紫外光线通过一个狭缝聚焦在硅片上，获得均匀的光源，掩模版和带胶硅片被放置在扫描架上，并且一致地通过窄紫外光束对硅片上的光刻胶曝光，由于发生扫描运动，掩模版图像最终被光刻在硅片表面。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 |
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