出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
| 词条 | 光学临近修正 |
| 释义 | 光学临近修正 光学临近修正 为避免光学临近效应的产生，直接修改设计的版图，然后再去做掩模版的过程。光学临近效应指在深亚微米的半导体制造中，由于关键图形的尺寸远小于波长，使光的衍射效应导致投影至硅片上的图形有很大变化的现象，包括线宽的变化、转角的圆化、线长的缩短等。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 |
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