出处：材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性
| 词条 | 低压化学气相沉积 |
| 释义 | 低压化学气相沉积 低压化学气相沉积 在低压条件下的化学气相沉积方法。降低压力可以减少不必要的气相反应，以增加薄膜的均匀性。在集成电路制程中，主要在生成氮化硅、多晶硅、二氧化硅及非晶硅等不同材料。集成电路大部分的化学气相沉积制程都是使用此方法或超高真空化学气相沉积。 出处：材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性 |
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