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| 词条 | 刻蚀工艺 |
| 释义 | 刻蚀工艺 刻蚀工艺 除去未被抗蚀剂掩蔽的薄膜层后在薄膜上得到与抗蚀剂膜上完全相同图形的工艺。在集成电路制造过程中，经过掩模套准、曝光和显影，在抗蚀剂膜上复印出所需的图形，或者用电子束直接描绘在抗蚀剂膜上产生图形，然后把图形精确转移到抗蚀剂下面的介质薄膜（如氧化硅、氮化硅、多晶硅）或金属薄膜（如铝及其合金）上，制造出所需的薄层图案。有化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法。分为湿法刻蚀和干法刻蚀（离子铣刻蚀、等离子刻蚀和反应离子刻蚀）两大类。 出处：材料科学卷 • 信息功能材料 • 信息储存材料 |
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