金属覆盖方法之一。在高真空容器内,装有一对电极,镀件置于阴极附近,当施加以1 000~3 000伏高压电时,两极间产生辉光放电,真空容器中残余的气体分子离解为正离子和电子,正离子疾趋阴极,轰击阴极金属表面,使金属以微粒状态向周围溅射而沉积在镀件上。主要用于非导体表面被覆金属薄膜。
词条 | 阴极溅射 |
释义 | 阴极溅射 金属覆盖方法之一。在高真空容器内,装有一对电极,镀件置于阴极附近,当施加以1 000~3 000伏高压电时,两极间产生辉光放电,真空容器中残余的气体分子离解为正离子和电子,正离子疾趋阴极,轰击阴极金属表面,使金属以微粒状态向周围溅射而沉积在镀件上。主要用于非导体表面被覆金属薄膜。 |
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