在半导体晶片表面制作薄膜的一种工艺。把金属在真空中加热熔化，并蒸发成蒸气原子淀积到晶片上，形成一层薄而均匀的金属膜。用来制作半导体器件和集成电路的内引线、欧姆接触等。按蒸发源加热方法，分电阻丝加热蒸发、电子束蒸发和离子束蒸发等。