印刷工艺之一。将文字、图画的原稿制成印刷底片或印版。半导体工艺之一。制作光刻所用掩膜版的工艺。根据器件的参数要求，按选定的方法，绘制出所要求尺寸精度的几何图形。然后经初缩和精缩两次缩小照相或采用电子束直写技术，以一定的间距和布局，将图案重复排列于掩膜基片上制成掩膜版，供光刻工艺曝光之用。由于掩膜版的质量直接影响光刻质量，从而影响器件的性能和成品率，故制版是关键性半导体工艺之一。